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當前位置:首頁技術文章Sensofar S mart 2可集成性測量頭:高效測量,便捷集成

Sensofar S mart 2可集成性測量頭:高效測量,便捷集成

更新時間:2025-02-10點擊次數(shù):261

我們致力于與您的集成需求一起不斷發(fā)展,S mart 2

我們很高興與您分享一些有關我們的 S mart 2 系統(tǒng) 令人興奮的消息!在本新聞中,您將了解到有關新功能的信息,有一個演示該系統(tǒng)在 CMP 過程的案例研究以及我們在中國的合作伙伴成功完成的一次集成的消息。

打開新的探索途徑! 

S mart 2變得更加靈活多樣,添加了三個新干涉物鏡,包括干涉2.5X TI5X TI,以及明場100X EPI鏡頭。有了這些新鏡頭,顯微鏡的功能得到了大大增強。

接近科技的極限

使用CSI的膜厚模式,用戶可以獲取約為1.5微米厚的透明膜層的頂部、厚度和底部的地形數(shù)據(jù)。

CMP過程中PAD表面監(jiān)測的在線計量學

在CMP過程中,頻繁更換拋光墊常常導致停機時間增加和產量下降。為了解決這個問題,我們將我們的便攜式系統(tǒng)S mart 2進行了改進,以便進行在線測量,并檢測溝槽阻塞和墊片上的粗糙度情況。

S mart 2可以將拋光墊的使用壽命延長20%,為半導體、硬盤和LED晶圓制造領域提供了一種具有成本效益的解決方案。

可集成解決方案在中國取得成功

我們很高興與您分享關于我們合作伙伴蘇州黑河在中國成功集成的一些新聞和視頻。

我們的技術已經證明了其與不同制造過程和系統(tǒng)的集成性,使它成為先進的表面計量學的一種靈活而強大的工具。

通過這種集成的成功,我們有信心會有更多的集成商能夠利用我們的技術來增強他們的質量控制流程,實現(xiàn)更高效、更準確的結果。

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